秀出才华
虹桥艺术中心IP设计征集令！！！
虹桥艺术中心，这一长宁区的璀璨地标，它不仅是建筑的杰作，更是文化与艺术的汇聚地，见证了无数精彩演出与难忘瞬间。
如今，这座艺术殿堂即将迎来一次品牌换新的重要一步！东虹桥文化公司现面向全体集团内部职工，发起场馆IP及衍生品设计征集活动，为我们的艺术明珠注入新的灵魂！
这是一次专属上服人的创意舞台！
PART-1
我们期待
独一无二的“虹艺”IP形象(单个形象)：
为虹桥艺术中心设计一个积极向上、立意健康的单个专属IP形象（不得设计组合形象）；
要求形象具有高辨识度、亲和力与艺术气质，体现虹桥艺术中心现代、时尚、活力、包容的品牌调性（同时考虑实物落地与商业化潜力）；
需提供清晰的三视图（正面/侧面/背面）。
PART-2
参与方式
（一）征集对象：
上服集团全体在职职工；
（二）征集时间：
2025年8月4日至8月20日；
（三）投稿要求：
设计稿：初选阶段提供JPG或PNG格式图片，像素不小于800*800，分辨率不低于300dpi；
创意说明：简述设计理念、形象命名及寓意（文字形式）；
著作权承诺：承诺作品为原创，未使用AI生成，且未侵犯任何第三方权益；
衍生品设计（如有）：提供产品设计图（效果图/结构图）、使用场景说明、设计理念（300字内）；
（四）投稿方式：
donghongqiao@shanghai-garment.com；
（五）评审流程：
由主办方上海东虹桥文化发展有限公司组织，综合创意性、艺术性、品牌契合度、可实现性等因素评选。
PART-3
重要须知
原创性要求：作品必须为原创，不接受AI生成作品。除本次征集外，未曾公开发表。严禁侵犯他人知识产权或违反法律法规。侵权责任由投稿者自负，并取消资格；
知识产权归属：获奖作品的著作权将自动转让给主办方（上海东虹桥文化发展有限公司），投稿者保留署名权；
最终解释权：本活动最终解释权归上海东虹桥文化发展有限公司所有。
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家人们，舞台已经搭好
聚光灯已就位！
行动起来，期待你的精彩创意！！
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