「DESIGN & CHINA」图形标志有偿征集大赛

你想让自己设计的
LOGO
在国际舞台上展示吗？
你想与全球顶尖设计院校的师生们同场交流吗？
你想获得世界一流实践研究型设计创新研究院的实习机会吗？
那么请你踊跃投稿，将你设计的LOGO砸向我们吧！

“设计&中国 | DESIGN & CHINA” 
全球顶尖设计院校高峰汇演
（简称“设计&中国”）
活动背景
活动由上海国际设计创新研究院（
SIIDI
）主办。
活动主旨为“以设计驱动创新”。将“中国制造”与文化、科技、艺术、商业等创新元素相结合，真正成为“中国创造”。
包含智能制造、医疗健康、社会创新三个领域的作品。
届时二十余所国内外顶尖高校的优秀代表前来参加汇演展。
国际参展院校：
Aalto University
Central Saint Martins
Delft University of Technology
Eindhoven University of Technology
Korea Advanced Institute of Science and Technology
Massachusetts Institute of Technology
Parsons School of Design
Polytechnic University of Milan
Royal Academy of Arts
Stanford University
University of Technology Sydney
国内参展院校：
东华大学
华东理工大学
湖南大学
江南大学
清华大学
上海工程技术大学
上海应用技术大学
同济大学
香港理工大学
中国美术学院
中央美术学院
浙江大学
活动时间
“设计&中国”预定2018年10月28-30号 在上海举行。
一、征集对象
本次活动主要面对国内外参展院校的全体师生与校友；同时欢迎社会各界有兴趣的个人或组织参加。

二、征集要求
（一）设计元素包含：
中文：设计&中国
英文：DESIGN & CHINA
（二）设计要求：
1. 能够体现出活动主旨“设计驱动创新”，能够产生社会影响力；
2. 构图简洁、大气、新颖，LOGO色彩搭配适当、醒目，图案、文字、符号等组合协调统一，易于记忆、传播，视觉冲击力强；
3. 设计作品应易于应用、具备开发价值，要考虑应用于多种视觉传播方式，在表现形式和技术手段上适用于平面、立体和电子媒介的传播和再创作，以及放大或缩小时的视觉效果，便于印刷与制作；
4. LOGO应是一件完整的作品，稿件应包括LOGO设计图稿、不超过200字的创作理念和设计说明；
5. 设计作品要求必须原创，作品本身及任何主体特征性构成元素未以任何形式在国家商标局注册过。不得侵犯他人的著作权，不得违反任何法律法规。若有侵权、违法和著作权纠纷等均由投稿者自行承担后果。
6. 参赛作品一经采用，其所有权、修改权和使用权均归主办方所有，创作者不得在他方再行使用。
7. 经甄选成为“设计&中国”
LOGO的获奖作品，除获奖作品的法定不可转移之署名权外，获奖作品的版权（著作权）等知识产权以及因获奖作品所衍生或制作的产品的权属及产生的财产权益，均归属“设计&中国”组委会所有。
 
三、征集时间
即日起至
2018年8月31日
提交参赛作品。
四、奖项设置
入围奖四名：SIIDI 2019
年活动通票。（请后台回复“目录”提取往期活动精选）。
采用奖一名：
SIIDI 实习机会。（另发入围奖）。
在标志征集截止日期之后，征集单位将组织专家评审委员会对所有标志进行评审，9月10日前在SIIDI微信公众号公示获奖设计者名单，向获奖者颁发证书和奖品。
五、投稿方式
1. 参赛作品通过报名链接提交，电子稿可提供PSD、JPG、AI、CDR等格式文件（注：JPG格式必须提供，JPG图形文件为RGB格式，300dpi以上，面积不少于20平方厘米），稿件应包括LOGO设计图稿、创作理念和设计说明；最终获奖作品需提交矢量图源文件（源文件为AI或CDR格式文件）。
2. 报名请点击「阅读原文」
3. 电子版投稿截止时间为
2018年8月31[日。
提交时间以电子邮件发送时间为准。所有征集设计作品无论采用与否，均不退稿，请作者自留底稿。
4. 本次活动的最终解释权归“设计&中国”组委会。
5. 如有任何问题，请联系组委会，邮箱：info@siidi.cn
指导单位：
上海市教育委员会
主办单位：
上海国际设计创新研究院
协办单位：
上海市设计学IV类高峰学科
https://mp.weixin.qq.com/s/ts2gr-ZbMYZA2NxoUn9IiQ